2025-04-11 12:23:00
湘潭宏大真空申请一种等离子体发生器及磁控溅射镀膜机专利,可提高等离子体的能量密度均匀一致性
金融界2025年4月11日消息,国家知识产权局信息显示,湘潭宏大真空技术股份有限公司申请一项名为“一种等离子体发生器及磁控溅射镀膜机”的专利,公开号 CN 119789292 A,申请日期为2024年12月。专利摘要显示,本发明公开了一种等离子体发生器及磁控溅射镀膜机,等离子体发生器包括具有等离子体
等离子体
磁控溅射
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股份有限公司
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